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主要指标：样品最大4英寸；靶材尺寸2英寸；四靶共溅射；本底真空<8*10-5Pa；衬底加温范围：室温~400℃；厚度均匀性均优于±5%；用于制备半导体、金属、陶瓷薄膜等。
生产厂商：上海纳晶/MPP550IV
所在实验室：纳米光电材料与微结构研究中心
存放位置：逸夫楼B245
联系人：魏涛
联系电话：登录后查看
收费标准：校外800/小时、校内400/小时
设备状态：
主要指标：样品最大4英寸；靶材尺寸2英寸；四靶共溅射；本底真空<8*10-5Pa；衬底加温范围：室温~400℃；厚度均匀性均优于±5%；用于制备半导体、金属、陶瓷薄膜等。