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主要指标：极限真空度<3*10-4 Pa；样品最大8英寸；刻蚀气体CF4、SF6、CHF3、Ar、O2；300W RF电源；刻蚀速率均匀性<±5%，满足微纳图形刻蚀。
生产厂商：英国牛津/Plasma Pro80
所在实验室：纳米光电材料与微结构研究中心
存放位置：逸夫楼B245
联系人：魏涛
联系电话：登录后查看
收费标准：校外2000/小时、校内1000/小时
设备状态：
主要指标：极限真空度<3*10-4 Pa；样品最大8英寸；刻蚀气体CF4、SF6、CHF3、Ar、O2；300W RF电源；刻蚀速率均匀性<±5%，满足微纳图形刻蚀。