主要指标:样品最大4英寸;本底真空<6*10-5Pa;衬底加温范围:室温~300℃;膜厚在线监测;均匀性优于±5%;用于制备金属、有机薄膜等。
生产厂商:上海纳晶/VR400III
所在实验室:纳米光电材料与微结构研究中心
存放位置:逸夫楼B245
联系人:魏涛
联系电话:登录后查看
收费标准:校外400/小时、校内200/小时
设备状态:
主要指标:样品最大4英寸;本底真空<6*10-5Pa;衬底加温范围:室温~300℃;膜厚在线监测;均匀性优于±5%;用于制备金属、有机薄膜等。