等离子体增强化学气相沉积设备

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生产厂商：PECVD350

所在实验室：纳米光电材料与微结构研究中心

存放位置：逸夫楼B245

联系人：程淼

联系电话：登录后查看

收费标准：校外800/小时、校内400/小时

设备状态：

详细介绍

主要指标：样品最大6英寸；本底真空<7*10-5Pa；衬底加温范围为室温~600℃；厚度均匀性优于±5%；可制备SiO2和SiN薄膜