光盘PVD可制备5英寸大尺寸薄膜样品,采用4英寸靶材,靶材类型包括各类金属、陶瓷靶材和半导体靶材,可进行三靶共溅射。腔室可通氩气、氮气和氧气。
生产厂商:上海福宜
所在实验室:纳米光电材料与微结构研究中心
存放位置:逸夫楼B245
联系人:魏涛
联系电话:登录后查看
收费标准:1500元/小时
设备状态:
光盘PVD可制备5英寸大尺寸薄膜样品,采用4英寸靶材,靶材类型包括各类金属、陶瓷靶材和半导体靶材,可进行三靶共溅射。腔室可通氩气、氮气和氧气。